特許
J-GLOBAL ID：200903099523694628
シリコンウェーハの保管方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
桑井 清一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-270871
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097138
出願日： 1992年09月14日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】 シリコンウェーハ表面の自然酸化膜の成長を抑止して保管し、後工程の自由度(処理開始時間の遅延、場所の移動等)を高める。【構成】 例えばHF洗浄液による洗浄後のシリコンウェーハを樹脂製のケース内に保管する。ケース内は室温に保持しておく。ケース内は大気を満たすが、窒素等不活性ガスを封入してもよい。
請求項（抜粋）：
洗浄後のシリコンウェーハを密閉容器内に保持することを特徴とするシリコンウェーハの保管方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/68
