特許

J-GLOBAL ID：200903099526792485

走査露光装置及び方法並びにそれを用いたデバイス製造方法

発明者： 神田 恒雄 ,  山田 雄一 ,  鵜沢 繁行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-172067
公開番号（公開出願番号）：特開平9-022863
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：

【要約】【課題】 感光基板上に高いスループットで無駄なくパターンを転写できる走査露光装置及び方法並びにデバイス製造方法を提供する。【解決手段】 マスクステージ3と基板ステージ4を所定の速度比で同時に移動させることによってマスクパターンの投影像を感光基板上に走査露光する装置において、前記感光基板上のチップレイアウトをマスクパターンのチップ構成、チップサイズの情報からチップ単位で決定し、その決定されたレイアウトに応じて一括走査領域を決め走査露光を行う。

請求項（抜粋）：

原画パターンが形成されたマスクを保持して走査方向に沿って往復移動可能なマスクステージと、前記原画パターンもしくはその一部を所定の倍率で投影する投影光学系と、前記投影光学系の結像面に感光基板を保持して前記走査方向に沿って往復移動可能な基板ステージとを備え、前記マスクステージと前記基板ステージを前記倍率に応じた速度比で同時に移動させることによって前記原画パターンの投影像を前記感光基板上に走査露光する装置において、前記感光基板上のチップレイアウトを前記原画パターンのチップ構成、チップサイズの情報からチップ単位で決定し、その決定されたレイアウトに応じて一括走査領域を決め走査露光を行うことを特徴とする走査露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 514 C ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-291838   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭59-101831