特許
J-GLOBAL ID:200903099553398608
磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡辺 望稔 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-335889
公開番号(公開出願番号):特開2000-163740
出願日: 1998年11月26日
公開日(公表日): 2000年06月16日
要約:
【要約】【課題】表面粗さが極端に低いスムースな表面を有する結晶化ガラスを効率よく生産する磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法の提供。【解決手段】結晶化ガラス基板の仕上げポリッシング工程において、平均粒径D50が0.8μm以下のCeO2 を研磨材とし、該研磨材を1重量%以下含有する研磨液を用いて結晶化ガラス表面を研磨することを特徴とする磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法。
請求項(抜粋):
磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の仕上げポリッシング工程において、平均粒径D50が0.5μm以下のCeO2 系研磨材を1重量%以下含有する研磨液及び研磨布を用いて研磨することを特徴とする磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法。
IPC (4件):
G11B 5/84
, B24B 37/00
, C03C 19/00
, G11B 5/73
FI (4件):
G11B 5/84 A
, B24B 37/00 H
, C03C 19/00 Z
, G11B 5/704
Fターム (24件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CA01
, 3C058CA06
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058CB10
, 3C058DA02
, 3C058DA17
, 4G059AA15
, 4G059AB03
, 4G059AC03
, 5D006CB04
, 5D006CB07
, 5D006DA03
, 5D006FA00
, 5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112BA03
, 5D112BA09
, 5D112GA02
, 5D112GA09
, 5D112GA14
, 5D112GA30
引用特許: