特許
J-GLOBAL ID:200903099635815665

ダンパ装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 広渡 禧彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-154236
公開番号(公開出願番号):特開2000-304097
出願日: 1999年04月22日
公開日(公表日): 2000年10月31日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 耐久性、制振性及び信頼性が優れたダンパ装置を製造する。【解決手段】 ダンパハブの内周に近い半径R<SB>1</SB>の円周上に複数個のボルト穴を等間隔に配置すると共に、第1及び第2環状ラバー層を形成すべきラバー注入穴を同心の半径R<SB>2</SB>,R<SB>3</SB>の円周上に多数配置する。第1及び第2ラバー注入穴は、ダンパハブの回転軸線とボルト穴を通る半径面に夫々配設されると共に、上記各ラバー注入穴の円周方向中間部に等間隔を存して整数個の第1及び第2ラバー注入穴を夫々追加配置する。加硫用上型にも、第1及び第2ラバー注入穴に対応する配置パターンで夫々同数の外側及び内側ラバー注入穴を設ける。上型側のラバー注入穴の直径d<SB>1</SB>よりダンパハブ側のラバー注入穴の直径d<SB>2</SB>を大とし、好ましくは1.2<d<SB>2</SB>/d<SB>1</SB>≦2とする。また、ラバー材として、硬度70°以上でかつ破断伸びが380%(at25°C)以上のEPDM材を使用する。
請求項(抜粋):
回転軸に固着されて一体的に回転するダンパハブの一側面に、第1及び第2の環状ラバー層を介して第1及び第2の環状慣性体を上記回転軸軸線に対し同心的に装着したダンパ装置の製造に当り、上記ダンパハブと第1及び第2環状慣性体を上型及び下型に挿入して同上型及び下型を閉じたのち、予め調製されたラバー材を、上型に設けられた相対的に小径のラバー注入穴からダンパハブに設けられた相対的に大径のラバー注入孔を経て上記第1及び第2環状ラバー層を形成すべき型内空間に圧入することを特徴とするダンパ装置の製造方法
IPC (5件):
F16F 15/126 ,  B29C 43/18 ,  B29K 21:00 ,  B29K105:24 ,  B29L 31:30
FI (2件):
F16F 15/126 A ,  B29C 43/18
Fターム (8件):
4F204AA45 ,  4F204AD03 ,  4F204AH17 ,  4F204FA01 ,  4F204FB01 ,  4F204FB11 ,  4F204FF01 ,  4F204FN17
引用特許:
審査官引用 (4件)
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