特許
J-GLOBAL ID:200903099638291020

画像認識方法、及び半導体ウエーハの画像認識装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-136404
公開番号(公開出願番号):特開平10-326346
出願日: 1997年05月27日
公開日(公表日): 1998年12月08日
要約:
【要約】【課題】 パターン認識を利用して位置検出を行い、これによりたとえば自動測定や、検査、製造などを行う場合のパターン認識率を向上させて、信頼性を向上させた画像認識方法、及び半導体ウエーハの画像認識装置を提供する。【解決手段】 特定のパターンが存在する被検出体(半導体ウエハー)について、該被検出体を画像認識してあらかじめ定めたリファレンス画像と比較することにより該特定のパターンが存在する存在位置を検出する画像認識方法において、リファレンス画像は、検出すべき特定のパターンの1種類に対し複数(リファレンス1〜3)定めておき、該複数のリファレンス画像を用いて順次比較1,2を行って、特定のパターンが存在する存在位置を検出する画像認識方法。
請求項(抜粋):
特定のパターンが存在する被検出体について、該被検出体を画像認識してあらかじめ定めたリファレンス画像と比較することにより該特定のパターンが存在する存在位置を検出する画像認識方法において、上記リファレンス画像は、検出すべき特定のパターンの1種類に対し複数定めておき、該複数のリファレンス画像を用いて順次比較を行って上記特定のパターンが存在する存在位置を検出することを特徴とする画像認識方法。
IPC (4件):
G06T 7/00 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/24 ,  H01L 21/66
FI (6件):
G06F 15/70 455 A ,  G01B 11/00 H ,  G01B 11/24 F ,  H01L 21/66 Z ,  H01L 21/66 P ,  G06F 15/62 405 C
引用特許:
審査官引用 (6件)
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