特許
J-GLOBAL ID：200903099641476945

反射防止積層体

発明者：
吉原 俊昭

吉原 俊昭 について

, 
大畑 浩一

大畑 浩一 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-138375
公開番号（公開出願番号）：特開2002-331615
出願日： 2001年05月09日
公開日（公表日）： 2002年11月19日
要約：
【要約】【課題】本発明は、低屈折率を有し、物理的強度および防汚性に優れ、かつ生産性に優れた安価な反射防止積層体を提供する。【解決手段】ハードコート層(HC層)と低屈折率層(L層)とを積層してなる反射防止積層体において、HC層が、分子中にビニル基などの重合可能な不飽和結合を少なくとも3個以上を有するアクリル系化合物を主成分とする樹脂からなり、L層との界面となるHC層表面が極微細の粗面構造を呈し、かつL層がSiアルコキシドおよびその加水分解物と、フッ素含有ケイ素化合物およびその加水分解物とを主成分とする低屈折率コーティング剤を塗布形成されてなる反射防止積層体である。
請求項（抜粋）：
プラスチックやガラスなどの基材の少なくとも一方に、ハードコート層と低屈折率層とを順次積層してなる反射防止膜が形成された積層体において、該ハードコート層が、分子中にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重合可能な不飽和結合を少なくとも3個以上を有するアクリル系化合物を主成分とする樹脂から形成されてなるものであって、低屈折率層との界面となるハードコート層表面が極微細の粗面構造を呈し、かつ低屈折率層が、一般式(A)Si(OR)<SB>4</SB> ・・・(A)(Rはアルキル基)で表されるSiアルコキシドおよびその加水分解物と、一般式(B) CF<SB>3</SB>-(CF<SB>2</SB>)<SB>p</SB>-(CH)<SB>n</SB>-Si(OR)<SB>3</SB> ・・・(B)(pは0≦p≦8の整数、nはn<5の整数、Rはアルキル基)で表されるフッ素含有ケイ素化合物およびその加水分解物とを主成分とする低屈折率コーティング剤を塗布形成されてなることを特徴とする反射防止積層体。
IPC (7件)：
B32B 27/00 101 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 27/30 ,  G02B 1/10 ,  G02B 1/11 ,  G09F 9/00 313 ,  H04N 5/72
FI (7件)：
B32B 27/00 101 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 27/30 A ,  G09F 9/00 313 ,  H04N 5/72 A ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z
Fターム (41件)：
2K009AA02 ,  2K009AA12 ,  2K009AA15 ,  2K009CC09 ,  2K009CC12 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009CC45 ,  2K009DD02 ,  4F100AA20 ,  4F100AG00A ,  4F100AK01A ,  4F100AK17C ,  4F100AK25B ,  4F100AK52C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100CA23B ,  4F100DD07B ,  4F100DE01B ,  4F100EH46 ,  4F100GB41 ,  4F100JK12B ,  4F100JN18C ,  4F100JN30 ,  4F100YY00B ,  5C058BA30 ,  5C058BA35 ,  5C058DA01 ,  5G435AA00 ,  5G435AA14 ,  5G435AA17 ,  5G435DD12 ,  5G435FF02 ,  5G435GG11 ,  5G435HH03 ,  5G435KK07
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM