光集積回路およびその作製方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：光石俊郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-215533
公開番号（公開出願番号）：特開平7-128531
出願日： 1994年09月09日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：

【要約】【目的】製造が容易で光導波損失も小さく、さらに電子回路上にも光導波路を形成可能な光集積回路及びその作製方法を提供する。【構成】 InP基板1の同一基板上には、発光素子9及び受光素子10と同一の位置合せの手段を講じたマスクを用いて高分子材料からなる高分子光導波路8が形成されてなる。

請求項（抜粋）：

基板上に設けた発光素子及び/又は受光素子と、該発光素子及び/又は受光素子に光結合する高分子導波路とからなることを特徴とする光集積回路。

IPC (2件)：

G02B 6/122 , G02B 6/12

FI (2件)：

G02B 6/12 B , G02B 6/12 N

引用特許：

審査官引用 (6件)

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