基板処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲岡耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-112862
公開番号（公開出願番号）：特開平10-303164
出願日： 1997年04月30日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：

【要約】【課題】複数の吐出路のうち1つまたは複数の吐出路を閉塞または開放する前後で、閉塞または開放された吐出路以外の吐出路を流れる処理流体の流量を一定に保つ。【解決手段】第1〜第4リターン路43,49,55,61を流れる処理液の流量が、それぞれ第1〜第4吐出路42,48,54,60を流れる処理液の流量とほぼ同じになるように、第1〜第4リターン流量調整弁46,52,58,64がそれぞれ調整されている。制御部66は、第1〜第4吐出弁45,51,57,63がそれぞれ開成状態のときに第1〜第4リターン弁47,53,59,65がそれぞれ閉成状態となり、第1〜第4吐出弁45,51,57,63がそれぞれ閉成状態のときに第1〜第4リターン弁47,53,59,65がそれぞれ開成状態となるように、第1〜第4吐出弁45,51,57,63および第1〜第4リターン弁47,53,59,65の開閉を制御する。

請求項（抜粋）：

基板に対して処理を施すための処理流体を供給する供給源と、上記供給源に一端が接続されており、上記供給源から供給される処理流体が流通する供給路と、上記供給路に接続されており、上記基板に対して吐出される処理流体が流通する第1吐出路および第2吐出路を含む複数の吐出路と、上記第1吐出路に介装されており、処理流体の流通を許可する開成状態および処理流体の流通を阻止する閉成状態とに切換え可能な第1吐出弁と、上記供給路に接続されており、上記供給路を流通する処理流体を排出するための第1排出路を含む排出路と、上記第1排出路に介装されており、処理流体の流通を許可する開成状態および処理流体の流通を阻止する閉成状態とに切換え可能な第1排出弁とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/02

FI (2件)：

H01L 21/304 341 S , H01L 21/02 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

リンス機用温洗浄液供給装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-240826 出願人：エム・セテック株式会社
特開平2-056293
気体圧力式液体噴出方法及びその実施装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-301407 出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社

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