プラズマ処理装置の制御方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：亀谷美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-284207
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122544
出願日： 1993年10月20日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：

【要約】【目的】被処理体の裏面に伝熱媒体を供給した場合であっても、安定的に被処理体を静電チャックに吸着させることが可能な制御方法を提供する。【構成】プラズマ処理時には、静電チャック手段に直流電圧を印加し、さらに処理容器内にプラズマを励起し、静電チャックによる吸着保持をより安定させた後に、被処理体の裏面に伝熱媒体を供給するので、伝熱媒体の供給圧力により被処理体が静電チャックから外れる事故を防止することができる。またプラズマ終了時には、被処理体の裏面への伝熱媒体の供給を停止してから、プラズマを停止するので、プラズマの停止により静電チャックによる保持力が低下しても、伝熱媒体の供給圧力により被処理体が静電チャックから外れる事故を防止することができる。

請求項（抜粋）：

処理室の外部に絶縁体を介して配置された高周波アンテナに高周波電力を印加することによりその処理室内に誘導プラズマを励起して、その処理室内に配置された被処理体に所定の処理を施すプラズマ処理装置を制御するにあたり、前記被処理体を載置台に吸着固定する静電チャック手段に直流電圧を印加し、さらに前記高周波アンテナに高周波電力を印加してから、前記静電チャック手段と前記被処理体との間に伝熱媒体を供給することを特徴とする、プラズマ処理装置の制御方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/302 B , H01L 21/302 A

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-069956
特開平4-290225
特開平3-079025

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