特許
J-GLOBAL ID：200903099704793326

プローブ式形状測定装置

発明者：
熊谷 俊樹

熊谷 俊樹 について


出願人/特許権者：
オリンパス光学工業株式会社

オリンパス光学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-304692
公開番号（公開出願番号）：特開2002-116019
出願日： 2000年10月04日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：
【要約】【課題】 簡略な走査を行うだけで測定ノイズによる影響を受けることなく高精度に被測定面の形状を測定評価することが可能なプローブ式形状測定装置を提供する。【解決手段】 本発明のプロープ式形状測定装置は、測定プロープの接触子で被測定面上を走査し、接触子の操作軌跡のデータを測度座標系上の点列データとして求める3次元測定機1と、前記3次元測定機1にて測定された点列データを設計座標系の点列データに変換する座標変換手段62と、前記被測定面の設計式を入力する入力手段61と、入力手段61にて入力された設計式に測定プロープの誤差を加味したオフセット設計式を算出するとともに、 算出したオフセット設計式と、前記座標変換手段62にて設計座標系に座標変換された点列データとを比較することにより検出形状誤差を求め、前記被測定面に対する表面形状誤差を推定評価する演算処理手段63とを有することを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
測定プロープの接触子で被測定面上を走査し、接触子の走査軌跡のデータを測度座標系上の点列データとして求める形状測定手段と、前記形状測定手段にて測定された点列データを設計座標系の点列データに変換する座標変換手段と、前記被測定面の設計式を入力する入力手段と、入力手段にて入力された設計式に測定プロープの測定誤差を加味したオフセット設計式を算出するとともに、算出したオフセット設計式と、前記座標変換手段にて設計座標系に座標変換された点列データとを比較することにより検出形状誤差を求め、前記被測定面に対する表面形状誤差を推定評価する演算処理手段と、を有することを特徴とするプロープ式形状測定装置。
IPC (2件)：
G01B 21/20 101 ,  G01B 21/00
FI (2件)：
G01B 21/20 101 ,  G01B 21/00 P
Fターム (11件)：
2F069AA66 ,  2F069GG01 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069HH01 ,  2F069HH09 ,  2F069JJ08 ,  2F069LL02 ,  2F069NN00 ,  2F069NN15 ,  2F069NN17
引用特許：
審査官引用 (6件)
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