特許
J-GLOBAL ID：200903099785176660
改良された光応力発生器及び検出器
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 元彦 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-526852
公開番号（公開出願番号）：特表2000-515624
出願日： 1996年12月31日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
要約：
【要約】機械的特性及び熱特性の測定による薄膜と薄膜間の界面との特性調査のためのシステム。システムにおいて、レーザ(136)からの光は、薄膜や、複数の薄膜で作製された構造物に吸収され、光の透過あるいは反射の変化が測定されて、解析器(134)を使用して分析される。反射や透過の変化が使用されて、構造物で生成される超音波に関する情報を与える。本発明の測定方法及び装置の使用から得られる情報は、(a)初期の方法と比較して改善された速度および精度での薄膜の厚さの測定、(b)薄膜の熱特性、弾性特性、光特性の測定、(c)薄膜内の応力の測定、(d)粗さと欠陥との存在を含む、界面の特性の特性調査、を含む。
請求項（抜粋）：
構造物の特性を調べる方法であって、 前記構造物に第1の電磁放射を印加して構造物を伝搬する応力パルスを生成する行程と、 伝搬する応力パルスを遮るために複数の異なる入射角度で構造物に第2の電磁放射を印加する行程と、 複数の入射角度で構造物からの第2の電磁放射の反射及び透過の一方を検知する行程と、 時間による第2の電磁放射の反射変化を構造物の光学特性の値に相関させて光学特性の値に応じて伝搬する応力パルスの速度を測定する行程と、 伝搬する応力パルスの限定された速度に応じて自由に構造物の弾性係数を光学的に測定する行程と、からなることを特徴とする方法。
IPC (4件)：
G01N 21/21
, G01N 21/55
, G01N 21/59
, G01N 29/00 501
G01N 21/21 Z
, G01N 21/55
, G01N 21/59 Z
, G01N 29/00 501
