特許
J-GLOBAL ID：200903099818540789
光露光用マスク及びその製造方法並びにその補修方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-257667
公開番号（公開出願番号）：特開平5-005979
出願日： 1991年10月04日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：
【要約】【目的】 マスク作製工程の繁雑さの解消、位相シフト膜に生じた欠陥の補修。【構成】 パターン転写用の可視光または紫外光に対して透明な基板上に前記光に対して不透明なパターンを形成してなる光露光用のマスクにおいて、前記不透明パターン部周辺に露光光に対して透明薄膜パターンを設ける。パターン転写用の可視光または紫外光などの露光光に対して透明なマスク基板上に、露光光に対して不透明な不透明パターンを形成してなり、不透明パターンを挟む両側の少なくとも一方に位相部材を設け、その両側の透明部に位相差を生ずる構成とした光露光用マスクを形成するに際して、位相部材の上部位相部材及び/又は下部位相部材の欠陥を自己整合的に補修することからなる。【効果】 従来マスクに比べて大幅な解像度向上が期待できる。不透明パターンの周辺に2層の透明材料よりなる位相シフトマスクを作成できるとともに、万一位相シフト部に欠陥が発生して場合の補修も可能である。
請求項（抜粋）：
パターン転写用の可視光または紫外光などの露光光に対して透明なマスク基板と、そのマスク基板上に配設され、上記露光光に対して透明な透明膜と、その透明膜上に周辺部のみに上記透明膜を残して配設され、上記露光光に対して不透明な不透明パターンとを備えた光露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
