特許
J-GLOBAL ID:200903099853110592

露光方法及び露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-347877
公開番号(公開出願番号):特開2005-116721
出願日: 2003年10月07日
公開日(公表日): 2005年04月28日
要約:
【課題】 真空引き時の温度変化に起因するウェハのパターン歪みを防止することのできる露光方法及び露光装置を提供する。 【解決手段】 複数枚のウェハが収容されるウェハカセット20、プリアライナ21、ロボットアーム23は、大気中に配置されている。ロボットアーム23の近傍には加熱手段(ランプ)24が配置されている。ウェハWは、ロボットアーム23により、ウェハカセット20から取り出され、プリアライメントの後、ロードロック室27に搬送されて、真空引きされる。ロボットアーム23には、温度センサ26が取り付けられている。温度センサ26は、ランプ24からウェハWに実際に照射された熱量をモニターして熱量測定値を得、熱量測定値を制御装置25に送る。制御装置25は、温度センサ26から送られた熱量測定値に基づいて、ランプ24やロボットアーム23を操作して、ランプ24の照射時間や出力等を制御する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
真空下において感応基板上にエネルギー線を選択的に照射してパターンを形成する露光方法であって、 ウェハを真空領域に搬送する際の断熱冷却による該ウェハの温度変化を予測し、 予測した温度変化分に相当する熱量を、ランプの照射熱によって前記ウェハに与えて補償する際に、該ランプの照射熱をモニターしておき、前記ランプの照射熱の変化をフィードバックさせて、前記ウェハへの温度補償状態を一定に保つことを特徴とする露光方法。
IPC (4件):
H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01J37/20 ,  H01J37/305
FI (5件):
H01L21/30 541L ,  G03F7/20 521 ,  H01J37/20 E ,  H01J37/305 B ,  H01L21/30 531E
Fターム (13件):
5C001AA07 ,  5C001BB01 ,  5C001CC06 ,  5C034BB06 ,  5F046GA08 ,  5F046GA14 ,  5F056BA10 ,  5F056CB40 ,  5F056CC16 ,  5F056EA12 ,  5F056EA14 ,  5F056EA15 ,  5F056EA16
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-214793   出願人:株式会社ニコン
審査官引用 (7件)
  • 露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-214793   出願人:株式会社ニコン
  • 特開昭63-221618
  • 半導体製造装置および処理方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-049148   出願人:富士通株式会社
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