特許
J-GLOBAL ID：200903099882633006

定着ヒータ、定着装置および画像形成装置

発明者：
江▲崎▼ 史郎

江▲崎▼ 史郎 について


出願人/特許権者：
東芝ライテック株式会社

東芝ライテック株式会社 について


代理人 (1件)： 柏木 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-260002
公開番号（公開出願番号）：特開平10-104977
出願日： 1996年09月30日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：
【要約】【課題】 発熱抵抗体パターンの抵抗値の再現性や均一性を向上させる。【解決手段】 基板1の表面に発熱抵抗パターン2とその給電電極パターン3とをパターン形成して定着ヒータ5を形成する。発熱抵抗パターン2としては、面積抵抗値が3〜50mΩの銀・パラジウムを主成分とする抵抗体材料を用い、これを基板1の長手方向に沿って少なくとも一往復半以上のパターンで折り返し形成する。これにより、面積抵抗値が3〜50mΩと低いため、発熱抵抗パターン2の形成に用いる抵抗体材料ではパラジウムの含有量が少なくなる。このため、発熱抵抗パターン2における抵抗値の再現性や均一性が向上する。また、面積抵抗値が低い発熱抵抗パターン2を用いても、発熱抵抗パターン2は折り返し形成されているため、定着用のヒータ機能を十分に果たす。
請求項（抜粋）：
長尺平板状の絶縁性を有する基板と;銀・パラジウムを主成分とする抵抗体材料からなり、前記基板の長手方向に沿って少なくとも一往復半以上のパターンでその基板の表面に折り返し形成された発熱抵抗パターンと;この発熱抵抗パターンのための前記基板の表面に形成された給電電極パターンと;を備えることを特徴とする定着ヒータ。
IPC (3件)：
G03G 15/20 101 ,  H05B 3/00 330 ,  H05B 3/02
FI (3件)：
G03G 15/20 101 ,  H05B 3/00 330 Z ,  H05B 3/02 B
引用特許：
審査官引用 (4件)
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