荷電粒子線装置用試料ホールダ

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-366018
公開番号（公開出願番号）：特開2004-199969
出願日： 2002年12月18日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】本発明の目的は、集束イオンビーム加工法などにより加工した試料をさらに他の前処理法で薄膜加工し、そのまま電子顕微鏡により観察および分析することにある。【解決手段】上記目的は、FIB加工装置試料ホールダ用試料台においてFIB加工後の試料を材料の特性に合わせた方法で追加工し、FIB加工によって生じた汚染や損傷の不具合を完全に除去し、材料の本質を保存した試料を観察目的に最適な形状、厚さに加工することが可能な試料台を備えることで達成される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

液体金属を備えたイオン源と、該イオン源から発せられたイオンビームを加速する高電圧電源と、イオンビームを試料面上に集束するレンズと、集束されたイオンビームを試料面上で走査する偏向装置と試料を固定した試料ホールダを挿入する試料室を備えた集束イオンビーム加工装置試料ホールダ用試料台において該試料ホールダの形状が円柱または角柱状であることを特徴とする集束イオンビーム加工装置試料ホールダ用試料台。

IPC (4件)：

H01J37/20 , G01N1/28 , G01N1/32 , H01J37/317

FI (6件)：

H01J37/20 A , H01J37/20 G , G01N1/32 B , H01J37/317 D , G01N1/28 W , G01N1/28 G

Fターム (12件)：

2G052EC14 , 2G052EC17 , 2G052EC22 , 2G052GA32 , 2G052GA34 , 2G052GA35 , 5C001AA01 , 5C001CC01 , 5C001CC04 , 5C001CC07 , 5C001DD01 , 5C034DD09

引用特許：

審査官引用 (4件)

3次元構造観察用試料作製装置、電子顕微鏡及びその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-264067 出願人：株式会社日立製作所
試料台およびこれを用いた装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-260010 出願人：株式会社日立製作所
微小試料加工観察方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-344226 出願人：株式会社日立製作所

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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