特許
J-GLOBAL ID：200903099935655015

ボンド磁石の製造方法およびボンド磁石

発明者：
加藤 洋

加藤 洋 について

, 
新井 聖

新井 聖 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-101643
公開番号（公開出願番号）：特開2002-299142
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：
【要約】【課題】機械的強度が大きく、磁気特性に優れた磁石を提供することができるボンド磁石の製造方法およびボンド磁石を提供すること。【解決手段】本発明のボンド磁石は、円筒または円柱の全部または一部を構成する形状を有する。前記円筒または前記円柱の中心軸に略平行な断面における磁粉1個あたりの面積を各磁石粉末について集計した分布A、前記円筒または前記円柱の中心軸に略垂直な断面における磁粉1個あたりの面積を各磁石粉末について集計した分布Bとし、前記分布A、分布Bの中心値を、それぞれAve(A)[μm2]、Ave(B)[μm2]、前記分布A、分布Bの標準偏差を、それぞれΣa[μm2]、Σb[μm2]としたとき、本発明のボンド磁石は、下記式(I)を満足する。 0.10≦|Ave(A)-Ave(B)|/|Σa-Σb|≦5.0 ・・・(I)
請求項（抜粋）：
円筒または円柱の全部または一部を構成する形状のボンド磁石を製造する方法であって、磁石粉末と結合樹脂とを含むボンド磁石用組成物を、カレンダー加工によりシート状加工物とする工程と、前記シート状加工物を打ち抜き加工する工程とを有し、得られた前記ボンド磁石の、前記円筒または前記円柱の中心軸に略平行な断面を断面A、得られた前記ボンド磁石の、前記円筒または前記円柱の中心軸に略垂直な断面を断面B、前記断面Aの単位面積における前記磁石粉末1個あたりの面積を各磁石粉末について集計した分布を分布A、前記断面Bの単位面積における前記磁石粉末1個あたりの面積を各磁石粉末について集計した分布を分布B、前記分布Aの中心値をAve(A)[μm2]、前記分布Bの中心値をAve(B)[μm2]、前記分布Aの標準偏差をΣa[μm2]、前記分布Bの標準偏差をΣb[μm2]としたとき、下記式(I)を満足するようにボンド磁石を製造することを特徴とするボンド磁石の製造方法。 0.10≦|Ave(A)-Ave(B)|/|Σa-Σb|≦5.0 ・・・(I)
IPC (3件)：
H01F 41/02 ,  H01F 1/053 ,  H01F 1/08
FI (3件)：
H01F 41/02 G ,  H01F 1/08 A ,  H01F 1/04 C
Fターム (15件)：
5E040AA04 ,  5E040AA07 ,  5E040AA11 ,  5E040AA14 ,  5E040CA01 ,  5E040HB11 ,  5E040HB17 ,  5E040NN06 ,  5E040NN14 ,  5E062CC02 ,  5E062CC05 ,  5E062CD05 ,  5E062CE02 ,  5E062CE05 ,  5E062CG03
引用特許：
審査官引用 (8件)
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