特許

J-GLOBAL ID：200903099993422349

成膜装置および成膜方法

発明者： 中須 祥浩
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-031229
公開番号（公開出願番号）：特開2006-219687
出願日： 2005年02月08日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：

【課題】ターゲットの冷却を効率よく行うとともに、ワーク交換のためのロードロック室等を省略し、成膜装置の小型化を図る。【解決手段】真空室1内に設けられた回転テーブル6に複数のターゲットTおよび圧力分離用の蓋5を搭載する。ワークWの成膜面に面した真空室1の開口部に対応するスパッタ位置に逐次ターゲットTを移動させ、その裏面側に、冷却水流路を有するスパッタ駆動源8を押圧して、多層膜の成膜を行い、ワークWの交換時には蓋5によって真空室1の開口部を閉じる。スパッタ駆動源8は、大気側に配設されたスパッタ駆動源移動手段によって矢印R方向へ移動し、ターゲット支持板3に押圧される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ワークに向かって開口する開口部を備えた真空室と、前記真空室内に1個または複数のターゲットを支持し、前記ターゲットを逐次前記開口部に対応するスパッタ位置に移動させるターゲット移動手段と、前記スパッタ位置におけるターゲットに対向するように配設されたスパッタ駆動源と、前記スパッタ駆動源を前記スパッタ位置におけるターゲットの裏面側に押圧してスパッタリングを行うためのスパッタ駆動源移動手段と、前記ターゲットとともに前記ターゲット移動手段によって支持され、前記スパッタ位置において前記真空室の前記開口部を閉じるように構成された圧力分離用の蓋と、を有することを特徴とする成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/34 ,  G02B 1/11

FI (3件)：

C23C14/34 T ,  C23C14/34 C ,  G02B1/10 A

Fターム (12件)：

2K009AA03 ,  2K009BB02 ,  2K009DD03 ,  2K009DD04 ,  2K009DD09 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA05 ,  4K029DA01 ,  4K029DC39 ,  4K029KA05 ,  4K029KA09

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平3-158461号公報
  
• 成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-022178   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社