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J-GLOBAL ID：201002000507075994   整理番号：80A0186835

マグネトロン-プラズマトロンを用いた五酸化タンタルと二酸化チタンの反応性直流スパッタリング

Reactive D.C. sputtering with the magnetron-plasmatron for tantalum pentoxide and titanium dioxide films.

著者 (4件)： SCHILLER S (Forschungsinst. Manfred von Ardenne, G.D.R.) ,  HEISIG U (Forschungsinst. Manfred von Ardenne, G.D.R.) ,  STEINFELDER K (Forschungsinst. Manfred von Ardenne, G.D.R.) ,  STRUEMPFEL J (Forschungsinst. Manfred von Ardenne, G.D.R.)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 63  号： 2  ページ： 369-375  発行年： 1979年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  CODEN： THSFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiO₂やTa₂...

シソーラス用語： スパッタリング法 ,...

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タイトルに関連する用語 (7件)： マグネトロン ,  プラズマトロン ,  五酸化タンタル ,  二酸化チタン ,  反応性 ,  直流 ,  スパッタリング