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J-GLOBAL ID：201002001241027987   整理番号：80A0032345

ポリ-(メタクリル酸メチル)電子レジストの現像した輪郭線の分子量依存性

Molecular-weight dependence of developed contours in poly-(methyl methacrylate) electron resists.

著者 (3件)： ATODA N (Electotechnical Lab., Tokyo) ,  KOMURO M (Electotechnical Lab., Tokyo) ,  KAWAKATSU H (Electotechnical Lab., Tokyo)
資料名： J Appl Phys  (Journal of Applied Physics)
巻： 50  号： 5  ページ： 3707-3712  発行年： 1979年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ-(メタクリル酸メチル)(PMMA)膜に発達したプロフィ...

シソーラス用語： ポリメタクリル酸メチル ,...

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タイトルに関連する用語 (6件)： メタクリル酸メチル ,  電子 ,  レジスト ,  現像 ,  輪郭線 ,  分子量依存性