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J-GLOBAL ID：201002002961212443   整理番号：79A0013013

基板上の電子レジスト膜における吸収エネルギー密度の三次元的計算

A three-dimensional study of the absorbed energy density in electron-resist films on substrates.

著者 (5件)： MURATA K ,  NOMURA E ,  NAGAMI K ,  KATO T ,  NAKATA H
資料名： Jpn J Appl Phys  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 17  号： 10  ページ： 1851-1860  発行年： 1978年 
JST資料番号： G0520A  CODEN： JJAPA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子ビーム・リソグラフィーにおける基板上のポリマー膜の吸収エ...

シソーラス用語： 電子ビーム ,...

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引用文献 (8件)：

• 1) R. J. Hawryluk and H. I. Smith: Proc. 5th Int. Conf. on Electron and Ion Beam Science and Technology (Electrochem. Society, Princeton, NJ, 1972) p. 51.
• 2) J. S. Greeneich and T. Van Duzer: IEEE Trans. Electron Devices ED-21 (1974) 286.
• 3) M. Hatzakis, C. H. Ting and N. S. Viswanathan: Proc. 6th Int. Conf. on Electron and Ion Beam Science and Technology (Electrochem. Society, Princeton, NJ, 1974) p. 542.
• 4) R. J. Hawryluk, A. M. Hawryluk and H. I. Smith: J. appl. Phys. 45 (1974) 2551.
• 7) J. S. Greeneich: J. appl. Phys. 45 (1974) 5264.

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子 ,  レジスト膜 ,  エネルギー密度 ,  計算