文献
J-GLOBAL ID:201002016740533475 整理番号:79A0207205
シリコン中のりんの拡散方程式の数値解
Numerical solution of phosphorus diffusion equation in silicon.
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著者 (1件):
YOSHIDA M
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名寄せID(JGPN) 201550000026134032 ですべてを検索
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資料名:
Jpn J Appl Phys (Japanese Journal of Applied Physics)
Jpn J Appl Phys について
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巻:
18
号:
3
ページ:
479-489
発行年:
1979年
JST資料番号:
G0520A
CODEN:
JJAPA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)
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引用文献 (13件):
2) M. Yoshida: J. Appl. Phys.
48
(1977) 2169.
4) S. M. Hu and S. Schmidt: J. Appl. Phys.
39
(1968) 4272.
5) R. K. Jain and R. J. Van Overstraeten: IEEE Trans. Electron Devices
ED-21
(1974) 155.
7) J. A. Van Vechten and C. D. Thurmond: Phys. Rev. B
14
(1976) 3539.
9) M. Hirata, M. Hirata and H. Saito: J. Phys. Soc. Jpn.
27
(1969) 405.
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