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J-GLOBAL ID:201002016740533475   整理番号:79A0207205

シリコン中のりんの拡散方程式の数値解

Numerical solution of phosphorus diffusion equation in silicon.
著者 (1件):
資料名:
巻: 18  号:ページ: 479-489  発行年: 1979年 
JST資料番号: G0520A  CODEN: JJAPA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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E中心の拡散によりのみシリコン中のりんは拡散するというペア拡...
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引用文献 (13件):
  • 2) M. Yoshida: J. Appl. Phys. 48 (1977) 2169.
  • 4) S. M. Hu and S. Schmidt: J. Appl. Phys. 39 (1968) 4272.
  • 5) R. K. Jain and R. J. Van Overstraeten: IEEE Trans. Electron Devices ED-21 (1974) 155.
  • 7) J. A. Van Vechten and C. D. Thurmond: Phys. Rev. B 14 (1976) 3539.
  • 9) M. Hirata, M. Hirata and H. Saito: J. Phys. Soc. Jpn. 27 (1969) 405.
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