文献
J-GLOBAL ID:201002017497338827   整理番号:79A0205786

真空蒸着

著者 (1件):
資料名:
巻: 30  号:ページ: 225-231  発行年: 1979年 
JST資料番号: G0441A  ISSN: 0026-0614  CODEN: KZHGA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
標記法の特徴と抵抗加熱型蒸着ならびに電子ビーム蒸着での蒸発源...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
,...
   続きはJDreamIII(有料)にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=79A0205786&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0441A") }}
引用文献 (31件):
  • 1) 例えば L. Holland; Vacuum Deposition of Thin Films, (1956, Chapman & Hall)
  • 中村一男; 真空工業概論 (1964, 日刊工業)
  • 沢木司; 真空蒸着 (1965, 日刊工業)
  • 日本学術振興会編; 薄膜工学ハンドブック (1974, オーム社)
  • 金原粲; 薄膜の基本技術 (1976, 東京大学出版会)
もっと見る
タイトルに関連する用語 (1件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る