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J-GLOBAL ID:201002019953600132 整理番号:80A0058285
超LSIのための微細加工技術
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著者 (1件):
堀内重治
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名寄せID(JGON) 201551000064428027 ですべてを検索
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資料名:
テレビジョン学会誌 (テレビジョン)
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巻:
33
号:
11
ページ:
893-900
発行年:
1979年
JST資料番号:
F0330A
ISSN:
0386-6831
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
解説
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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超LSI実現に不可欠。従来技術延長として1/10縮小投影や遠...
シソーラス用語:
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引用文献 (34件):
1) J. Lyman : Lithography chases the incredible shrinking line, Electronics, April 12 (1979) 105
2) D. J. Levinthal : Mask Alignment and Photolithographic Wafer Imaging System Trends, Semiconductor International, Jan./Feb. (1979) 29
3) M. Nakase : Optical MTF Evaluation for the Photolithographic Technology, IEEE Trans., ED-25, 12 (1978) 1394
4) J. Roussel : Step-and-Repeat Wafer Imaging, Solid State Technol., 21, 5 (1978) 67
5) 三村 : 遠紫外線リソグラフィ, 応用物理, 47, 3 (1978) 223
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