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J-GLOBAL ID：201002063673788682   整理番号：78A0149635

遠紫外線リソグラフィ

著者 (1件)： 三村義昭 (電電公社武蔵野電通研)
資料名： 応用物理  (JSAP International)
巻： 47  号： 3  ページ： 223-228  発行年： 1978年 
JST資料番号： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 遠紫外線リソグラフィの特徴とその感光機構,および重水素,水銀...

シソーラス用語： リソグラフィー ,...

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引用文献 (14件)：

• 1) B. J. Lin: Vac. Sci. Technol., 12 (1975) 1317.
• 2) B. J. Lin: IBM J. Res. Developm., 20 (1976) 213.
• 3) W. M. Moreau and P. R. Schmidt: 138 th Electrochem. Soc. Meeting, Atlantic City, N. J., 1970, Extended Abstract p. 459.
• 4) M. Feldman, D. L. White, E. A. Chandross, M. J. Bowden and J. Appelbaum: Kodak Microelectronics Seminar Proceedings, Montray, Calf., Oct., 1975 (Eastman Kodak Co., Rochester, N. Y., 1976) p. 40.
• 5) 中根靖章,三船忠良:第11回半導体・集積回路技術シンポジウム予稿集 (1976) No. 9.

タイトルに関連する用語 (1件)： 遠紫外線リソグラフィ