文献

J-GLOBAL ID：201002045629726256   整理番号：79A0004744

特集:LSI生産システム ラスタスキャン方式 電子ビーム露光システム

著者 (4件)： 松本有史 (東芝総研) ,  河内康伸 (東芝総研) ,  河野たけし (東芝総研) ,  比田井裕 (東芝総研)
資料名： 電子材料  (Electronic Parts and Materials)
巻： 17  号： 11  ページ： 26-31  発行年： 1978年 
JST資料番号： F0040A  ISSN： 0387-0774  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体メーカの最新のニーズにマッチすべく開発したEBM-10...

シソーラス用語： 露光 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=79A0004744&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0040A") }}

タイトルに関連する用語 (3件)： LSI ,  ラスタスキャン ,  電子ビーム露光