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J-GLOBAL ID：201002049156638600   整理番号：78A0045138

同時スパッタリングによる希土類-遷移金属系アモルファス膜の作製

著者 (3件)： 山本寛 (東京工大・大学院) ,  直江正彦 (東京工大・工) ,  山中俊一 (東京工大・工)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 97-A  号： 11  ページ： 563-570  発行年： 1977年 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 単体金属板を組み合わせた十分大きな複合ターゲットを用い,同時...

シソーラス用語： スパッタリング ,...

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引用文献 (19件)：

• (1) P. Chaudhari, et. al.: Amorphous Metalic Films for Bubble Domain Applications, IBM J. Res. Developm. 17, 66(1973)
• (2) 白川他:「泡磁区材料としてのGd•Co非晶質薄膜の作成と特性」信学部品材料研資CPM 73-32(昭48)
• (3) R. Hasegawa : Static Bubble Domain Properties of Amorphous Gd-Co Films, J. Appl. Phys. 45, 3109 (1974)
• (4) S. Matsushita, et al.: Thermo-magnetic Writing in Gd-Co Sputtered Films, IEEE Trans. Magnetics MAG-11, 1109 (1975)
• (5) H. C. Bourne, et al.: Effects of dc Bias on the Fabrication of Amorphous Gd-Co rf Sputtered Films, IEEE Trans. Magnetics MAG-11, 1332 (1975)

タイトルに関連する用語 (5件)： 同時スパッタリング ,  希土類 ,  遷移金属 ,  アモルファス膜 ,  作製