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J-GLOBAL ID：201002055193324578   整理番号：80A0060817

イオン散乱法によるAu(800Å)/Cu(300Å)積層薄膜酸化の研究

著者 (1件)： 長阪道雄 (日電アネルバ)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 22  号： 12  ページ： 435-440  発行年： 1979年 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ガラス基板上のAu(800Å)/Cu(300Å)二重層につき...

シソーラス用語： イオン散乱 ,...

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引用文献 (13件)：

• 1) D. B. Butrymowics, J. R. Monning and M. E. Read : J. Phys. Chem. Ref. Data 3 (1974) 537.
• 2) P. Kofstad : High Temperature Oxidation of Metals (John Wiley & Sons Inc., New York, 1966) p. 185.
• 3) H. Wieder and A. W. Czanderna : J. Phys. Chem. 66 (1962) 816.
• 4) M. G. Hapase, M. K. Gharpurey and A. B. Biswas : Surface Sci. 9 (1968) 87.
• 5) J. D. Fast : Interaction of Metals and Gases (Academic Press, New York and London, 1965) p. 91.

タイトルに関連する用語 (6件)： イオン散乱 ,  Au ,  Cu ,  薄膜 ,  酸化 ,  研究