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J-GLOBAL ID：201002060561245954   整理番号：80A0063930

RFスパッタリングによるりん化ガリウム薄膜

R.F. sputtering of gallium phosphide thin films.

著者 (4件)： STAROSTA K (Inst. Radio Engineering and Electronics, Czechoslovak Academy of Sciences) ,  ZELINKA J (Inst. Radio Engineering and Electronics, Czechoslovak Academy of Sciences) ,  BERKOVA ́ D (Inst. Radio Engineering and Electronics, Czechoslovak Academy of Sciences) ,  KOHOUT J (Inst. Radio Engineering and Electronics, Czechoslovak Academy of Sciences)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 61  号： 2  ページ： 241-248  発行年： 1979年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  CODEN： THSFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 室温から540°Cのガラス及び金薄膜上にrfスパッタリングで...

シソーラス用語： りん化ガリウム ,...

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タイトルに関連する用語 (3件)： RFスパッタリング ,  りん化ガリウム ,  薄膜