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J-GLOBAL ID：201002075784366297 整理番号：78A0083491
プラズマ反応性スパッタエッチングによる種々の材料のエッチング
Etching characteristics of various materials by plasma reactive sputter etching.
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著者 (1件)：
MATSUO S
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名寄せID(JGPN) 201550000235450928 ですべてを検索
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資料名：
Jpn J Appl Phys (Japanese Journal of Applied Physics)
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巻：
17
号：
1
ページ：
235-236
発行年：
1978年
JST資料番号：
G0520A
CODEN：
JJAPA
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
短報
発行国：
日本 (JPN)
言語：
英語 (EN)
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引用文献 (1件)：
2) K. Jinno, H. Kinoshita and Y. Matsumoto: J. Electrochem. Soc. 124 (1977) 1258.
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