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J-GLOBAL ID：201002076236573426   整理番号：78A0082261

2つの対向ターゲットからのスパッタリングによる鉄薄膜の高速度蒸着

High rate deposition of iron films by sputtering from two facing targets.

著者 (3件)： HOSHI Y ,  NAOE M ,  YAMANAKA S
資料名： Jpn J Appl Phys  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 16  号： 9  ページ： 1715-1716  発行年： 1977年 
JST資料番号： G0520A  CODEN： JJAPA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 通常のスパッタリング法には,蒸着速度がきわめて小さく,ターゲ...

シソーラス用語： 強磁性薄膜 ,...

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引用文献 (2件)：

• 1) N. Hosokawa and M. Nakatukasa: Shinku (J. Vac. Soc. Japan) 16 (1973) 327 [in Japanese].
• 2) T. Tsukada and N. Hosokawa: Paper of Technical Group on Component Parts and Materials CPM–76–59 (1976).

タイトルに関連する用語 (6件)： ターゲット ,  スパッタリング ,  鉄 ,  薄膜 ,  高速度 ,  蒸着