文献
J-GLOBAL ID：201002085401791050 整理番号：76A0172822
電子ビームリソグラフィーにおける近接効果
Proximity effect in electron-beam lithography.
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著者 (1件)：
CHANG T H P
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名寄せID(JGPN) 201550000141661011 ですべてを検索
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資料名：
J Vac Sci Technol (Journal of Vacuum Science & Technology)
J Vac Sci Technol について
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巻：
12
号：
6
ページ：
1271-1275
発行年：
1975年
JST資料番号：
C0789A
ISSN：
0022-5355
CODEN：
JVSTA
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
アメリカ合衆国 (USA)
言語：
英語 (EN)
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