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J-GLOBAL ID:201002200537663555   整理番号:10A0626954

超薄有機ナノ複合体膜研究のためのエリプソメトリとX線関連技法を結合した方法

Combined ellipsometry and X-ray related techniques for studies of ultrathin organic nanocomposite films
著者 (10件):
資料名:
巻: 518  号: 19  ページ: 5509-5514  発行年: 2010年07月30日 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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シリコン上のニトロベンゼン超薄複合膜を,金蒸着前後での赤外分光エリプソメトリ(IRSE),X線反射率(XRR)およびX線定在波(XSW)法により分析した。赤外分光エリプソメトリは吸着物の同定および分子配向を研究するために行った。膜厚に対する結果はXRR測定と相関させた。さらに,ニトロベンゼン中に含まれる元素(C,N,およびO)のXSW測定は軟X線を用いて行った。種々の手法を結合することにより,金蒸着前後での電気化学的に堆積したニトロベンゼン膜に対するモデルを確認するすることが出来た。硬X線を用いたXRRおよびXSWスキャンによる特性評価から,金はニトロベンゼン膜中に侵入し,従ってこの層の密度および光学特性を顕著に変化させていることが示された。電子密度に相関した深さプロフィルがXRR測定から導出された。この深さプロフィルから複合膜内で金アイランドが垂直方向に局在していることが分かった。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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有機化合物の薄膜  ,  光物性一般 
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