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J-GLOBAL ID：201002202896965853   整理番号：10A0861537

添加物のないワット浴を用いた超臨界二酸化炭素エマルションによって電着した光輝ニッケル膜

Bright nickel film deposited by supercritical carbon dioxide emulsion using additive-free Watts bath

著者 (5件)： CHANG Tso-fu Mark (Precision and Intelligence Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa, 226-8503, JPN) ,  SONE Masato (Precision and Intelligence Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa, 226-8503, JPN) ,  SHIBATA Akinobu (Precision and Intelligence Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa, 226-8503, JPN) ,  ISHIYAMA Chiemi (Precision and Intelligence Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa, 226-8503, JPN) ,  HIGO Yakichi (Precision and Intelligence Lab., Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama, Kanagawa, 226-8503, JPN)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 55  号： 22  ページ： 6469-6475  発行年： 2010年09月01日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この論文は添加物のないワット浴を用いて電着したニッケル膜上の超臨界二酸化炭素エマルション(Sc-CO₂-E)の膜平滑化効果の研究を目的とする。(Sc-CO₂-E)で電着したニッケル膜の形態は無電解めっきで作られたニッケル膜のそれと類似していることが判った。(Sc-CO₂-E)で電着したニッケル膜の表面粗度(R_a)は,従来の方法で電着したニッケル膜のそれより低かった。R_a最小値を,電流密度が0.010から0.150A/cm²に増大した時の従来法とSc-CO₂-Eによって電着したニッケル膜で見出した。最小R_a値は,従来法とSc-CO₂-Eの場合で,それぞれ,0.020A/cm²の時69.8nmと0.030A/cm²の時に14.0nmであった。最小点の後,R_aの増加速度は,Sc-CO₂-Eの場合の方が低かった;これはSc-CO₂における水素溶解度が高いためだった。Sc-CO₂で電着したニッケル膜の粒子サイズは従来法のそれより細かいことが判った。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ワット浴 ,  *乳濁液 ,  *超臨界流体 ,  *二酸化炭素 ,  *電着 ,  *ニッケル ,  平滑化 ,  *金属薄膜 ,  *表面粗さ ,  粒度 ,  *超臨界二酸化炭素

分類 (3件)： 電極過程  (CB07040U) ,  コロイド化学一般  (CB11010C) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (7件)： 添加物 ,  ワット浴 ,  超臨界二酸化炭素 ,  エマルション ,  電着 ,  光輝 ,  ニッケル