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J-GLOBAL ID：201002209029300274   整理番号：10A0379434

窒素イオン照射を用いたPTFE表面改質効果のイオンエネルギー依存性

Dependence of Ion Energy on PTFE Surface Modification Effect by Nitrogen Ion Irradiation

著者 (3件)： 中山明彦 (東京都市大学) ,  岩尾徹 (東京都市大学) ,  湯本雅恵 (東京都市大学)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 130  号： 4  ページ： 331-336 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 優れた誘電率等を有するポリテトラフルオロエチレン(PTFE)は接着力が低い。本研究は接着力向上を目的に,窒素イオンのエネルギーを変化させた照射によりPTFE表面の改質を行った。低エネルギーイオンを照射した場合,未処理に比べ極性基が多く導入でき,高エネルギーの場合,分散力成分の値が未処理程度以下であった。2段階照射を検討した結果,30eVイオンで5分間照射し,次に1060eVで10秒照射した場合には,極性基が多く導入でき,しかも表面の平坦さは未処理レベルに維持できた。XPS法,全反射FT-IR法の結果から,表層に酸素含有の極性基及び表層から内部に窒素あるいは炭素を介した架橋構造が導入されたことを確認した

シソーラス用語： *ポリテトラフルオロエチレン ,  *表面改質 ,  付着力 ,  強度発現 ,  *イオン照射 ,  窒素 ,  エネルギー依存性 ,  固体誘電体 ,  *プリント基板 ,  イオンエネルギー ,  機械的性質
準シソーラス用語： *PTFE ,  *強さ向上 ,  *接着力 ,  *絶縁薄膜

分類 (2件)： プリント回路  (NA05040O) ,  表面処理  (YH04112X)

引用文献 (19件)：

• (1) 朝倉邦造:高分子辞典 第3版,ISBN4-254-25248-X,社会法人高分子材料 (2005)
• (2) K. S. Siow, L. Britcher, S. Kumar, and H. J. Griesser : “Plasma Methods for the Generation of Chemically Reactive Surfaces for Biomolecule Immobilization and Cell Colonization”, <i>Plasma Processes & Polymers</i>, Vol. 3, pp. 392-418 (2006)
• (3) J. M. Grace, L. J. Gerenser, and J. Dispers : “Plasma treatment of polymers”, J. Dispersion Sci. Technol., Vol. 24, pp. 305-341 (2003)
• (4) J. Zang, X. Yu, H. Li, and X. Liu : “Surface modification of polytetrafluoroethylene by nitrogen ion implantation”, Appl. Surf. Sci., Vol. 185, pp. 255-261 (2002)
• (5) N. Hamamura, M. Kajitani, M. Yumoto, and T. Sakai : “Surface Processing of PTFE using Discharge under High E/n Condition. Chemical Stability of Processed”, T. IEE Japan, Vol. 122-A, No. 8, pp. 742-747 (2002-8) (in Japanese)

タイトルに関連する用語 (5件)： 窒素イオン ,  PTFE ,  表面改質 ,  イオン ,  エネルギー依存性