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J-GLOBAL ID：201002212042894354   整理番号：10A0994525

ラボ用硬X線光電子分光装置の開発

Development of Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy for Laboratory Use

著者 (9件)： 小畠雅明 (独立行政法人物質・材料研究機構) ,  岩井秀夫 (独立行政法人物質・材料研究機構) ,  PIS Igor (独立行政法人物質・材料研究機構) ,  PIS Igor (Dep. of Surface and Plasma Sci., Fac. of Mathematics and Physics, Charles Univ. in Prague) ,  吉川英樹 (独立行政法人物質・材料研究機構) ,  田沼繁夫 (独立行政法人物質・材料研究機構) ,  田中彰博 (アルバック・ファイ株式会社) ,  鈴木峰晴 (アルバック・ファイ株式会社) ,  小林啓介 (独立行政法人物質・材料研究機構)
資料名： 表面科学  (JSSSJ)
巻： 31  号： 9  ページ： 487-492 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： F0940B  ISSN： 0388-5321  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 硬X線電子分光法(HXPS)は,励起源として高運動エネルギーのX線を利用するため,高運動エネルギーの光電子ピークを選択することで光電子の脱出深さが大きくなり,敏感な測定が期待できる。HXPSの問題点として,励起源のエネルギーが高くなるとイオン化断面積が指数的に減少することがあげられる。そのために,現行のHXPSはSPring-8等のHXP第3世代放射光施設の高エネルギーX線の使用で実現しており,その利用可能性は低い。著者等は,実験室においても実用的なスループットとエネルギー分解能で測定できるラボ用HXPSの開発を行っている。本稿ではHXPS装置を構成するもっとも重要なコンポーネントである単色化Cr Kα集束X線源と広取込立体角対物レンズの開発と基本性能および応用例を紹介した。20kVビーム電圧でマイクロ集束電子ビームによって励起したCr Kα X線を楕円型湾曲結晶モノクロメーターで回折し,試料に焦点化させた。最小9.9μm直径のX線スポットサイズが達成され,0.56eVのエネルギー分解を得た。極大許容角度は70°,角分解度は0.54°であった。本装置により,20nm以上の薄膜物質および10nm以上の多層薄膜の深さ情報の取得が可能になった。

シソーラス用語： *硬X線 ,  *X線光電子分光法 ,  断面積 ,  エネルギー分解能 ,  対物レンズ ,  X線 ,  *実験室 ,  長さ ,  被覆層 ,  多層膜 ,  電子ビーム ,  ビーム集束 ,  角度分解分光法 ,  X線源
準シソーラス用語： スポットサイズ ,  *実験室試験 ,  単色X線

分類 (2件)： 分光法と分光計一般  (BD07041Q) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

引用文献 (19件)：

• 1) K. Kobayashi: Nucl. Instrum: Methods Phys. Res., Sect. A 604, 8 (2009).
• 2) K. Kobayashi, M. Yabashi, Y. Takata, T. Tokushima, S. Shin, K. Tamasaku, D. Miwa, T. Ishikawa, H. Nohira, T. Hattori, Y. Sugita, O. Nakatsuka, A. Sakai and S. Zaima: Appl. Phys. Lett. 83, 1005 (2003).
• 3) “NIST Electron Inelastic-Mean-Free-Path Database: Ver. 1.1”: http://www.nist.gov/srd/nist71.htm.
• 4) Y. Takata, K. Tamasaku, T. Tokushima, D. Miwa, S. Shin, T. Ishikawa, M. Yabashi, K. Kobayashi, J.J. Kim, T. Yao, T. Yamamoto, M. Arita, H. Namatame and M. Taniguchi: Appl. Phys. Lett. 84, 4310 (2004).
• 5) J.J. Yeh and I. Lindau: Atom. Data Nucl. Data Tables 32, 1 (1985).

タイトルに関連する用語 (3件)： ラボ ,  硬X線光電子分光 ,  開発