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J-GLOBAL ID：201002214145019608   整理番号：10A0503222

新しい酸化物軟X線反射鏡のためのc面サファイア基板上のZnOおよびTiO₂薄膜の原子層エピタクシ

Atomic layer epitaxy of ZnO and TiO₂ thin films on c-plane sapphire substrate for novel oxide soft x-ray mirrors

著者 (5件)： MURATA Masaki (Osaka City Univ., Osaka, JPN) ,  TANAKA Yuji (Osaka City Univ., Osaka, JPN) ,  KUMAGAI Hiroshi (Osaka City Univ., Osaka, JPN) ,  SHINAGAWA Tsutomu (Osaka Municipal Technical Res. Inst., Osaka, JPN) ,  KOBAYASHI Ataru (Osaka City Univ., Osaka, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7603  ページ： 76030R.1-76030R.10  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： サファイア(0001)基板上に四塩化チタンおよびジエチル亜鉛蒸気と水蒸気の交互蒸着により酸化亜鉛(ウルツァイト)/酸化チタン(アナターゼ)原子層エピタクシ交互積層膜を形成した。X線回折によりキャラクタリゼーションを行った。アンモニア添加は反応促進および反射率の向上に有効であった。10反復積層構造からなるX線反射鏡について,反射率30%,グレージング角2θ=10度を確認した。

シソーラス用語： *軟X線 ,  *反射鏡 ,  インタリーブ ,  *原子層エピタクシー ,  *多層膜 ,  酸化亜鉛 ,  酸化チタン ,  化学蒸着 ,  塩化チタン ,  水蒸気 ,  X線回折 ,  アンモニア ,  添加物効果 ,  反射率 ,  入射角
準シソーラス用語： X線反射率 ,  サファイア基板 ,  交互積層

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  X線回折法  (BK01020I) ,  固-気界面一般  (CB12041H)

物質索引 (1件)： ジエチル亜鉛

タイトルに関連する用語 (7件)： 酸化物 ,  軟X線 ,  サファイア基板 ,  ZnO ,  TiO2 ,  薄膜 ,  原子層エピタクシ