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J-GLOBAL ID：201002215255479848   整理番号：10A0780241

”フリー”シリカナノテストチューブを得るための反応性イオンエッチングの使用

The use of Reactive Ion Etching for obtaining “free” silica nano test tubes

著者 (2件)： BUYUKSERIN Fatih (Nanomedicine and Advanced Technologies Res. Center, Gazi Univ., Ankara 06830, TUR) ,  MARTIN Charles R. (Dep. of Chemistry and Center for Res. at the Bio/Nano Interface, Univ. of Florida, Gainesville, FL 32611-7200, USA)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 256  号： 24  ページ： 7700-7705  発行年： 2010年10月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリカナノテストチューブは,バイオセンシング,磁気共鳴イメージング,及び標的癌治療を含めたいくつかのバイオテクノロジー応用をもつ一次元無機ナノ構造である。一般的に,それらは,ナノポーラスアルミナテンプレートへのシリカのゾル-ゲル堆積により作製される。分離されたフリーシリカナノテストチューブからなる試料の作製は,テンプレート上へのシリカの共形コーティングによる興味のあるプロセスであった。これは,ナノテストチューブを横に接続するトップ表面シリカ層の形成を引き起こした。ここに,テンプレート溶解によりフリーなシリカナノテストチューブを生じる,このトップ表面シリカ層を除去するための反応性イオンエッチングの使用を詳述した。機械的研磨アプローチと較べて,反応性イオンエッチング処理は,ナノスケールレベルでの表面材料の微細操作能力を可能にした。最大限に用いるならば,反応性イオンエッチングは,新しい一次元ナノカプセルを作り出すのに使用できるかもしれない。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ナノチューブ ,  *分離 ,  *アルミナ ,  多孔性 ,  ゾル-ゲル法 ,  溶解 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  ナノポーラス ,  テンプレート【型】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (1件)： 反応性イオンエッチング