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J-GLOBAL ID:201002215518314342   整理番号:10A0397834

電子はんだ接合部の界面金属間化合物層の経時変形挙動

Time-dependent deformation behavior of interfacial intermetallic compound layers in electronic solder joints
著者 (4件):
資料名:
巻: 25  号:ページ: 629-632  発行年: 2010年04月 
JST資料番号: D0987B  ISSN: 0884-2914  CODEN: JMREEE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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微小はんだ接合界面に生成した金属間化合物のクリープ性能を先端径が20nmの圧子を使用してナノインデンテーション法により調べた。ナノインデンテーション試験に必要な厚みの金属間化合物層は,Sn-3重量%Ag-0.5重量%Cu,およびSn-8.6重量%Zn組成のはんだと,直径1mmのCu,Ni,Agの線と反応させて形成した。圧子を金属間化合物層に800nmまで押込み,硬さ,弾性率,クリープ応力指数を測定した。その結果,Cu系金属間化合物はNi系,Ag系金属間化合物用より好ましい特性を示した。これらの金属間化合物はCu6Sn5以外はいずれも計算値より低い加工硬化指数を示し,クリープ抵抗は,融点や結晶構造よりも加工硬化性に依存した。
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
金属材料  ,  固体デバイス製造技術一般 

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