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J-GLOBAL ID：201002216365352084   整理番号：10A0663338

ガラスのレーザ加工 連続発振レーザによるガラスの変質とその現象観察

著者 (3件)： 比田井洋史 (東京工大) ,  伊東翔 (東京工大) ,  戸倉和 (東京工大)
資料名： レーザ協会誌  (LASER)
巻： 34  号： 3/4  ページ： 28-33  発行年： 2009年10月31日 
JST資料番号： L4200A  ISSN： 0916-7277  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 連続発振レーザによりガラス内部を変質させる方法(CW-LBI)について紹介するとともに,そのメカニズムなどを観察した結果も示した。本法では,ガラスの温度依存性を利用して,レーザ光をガラスに吸収させる。ガラス材として石英ガラスとPyrexガラス,吸収材として銅箔を用い,連続発振Arイオンレーザを照射した。それぞれのガラスに形成した変質部を顕微鏡観察するとともに,レーザ照射による光吸収部の発光をシャドウグラフ法により観察し,さらに,Arイオンレーザの透過光量の変化を測定した。その結果,レーザ照射により,1)ガラスが溶融し,約1msで変質部が形成される,2)変質時に透過率が10%まで低下する,ことが分かった。

シソーラス用語： *石英ガラス ,  *ホウケイ酸ガラス ,  銅箔 ,  Arレーザ ,  *レーザ加工 ,  レーザ照射 ,  連続レーザ ,  光吸収 ,  融解 ,  その場観察 ,  透過率 ,  *透明材料
準シソーラス用語： *パイレックスガラス ,  内部加工 ,  溶融

分類 (1件)： ガラスの製造  (YC02020O)

引用文献 (10件)：

• K. M. Davis, K. Miura, N. Sugimoto and K. Hirao: Writing waveguides in glass with a femtosecond laser, Opt. Lett.21, 21(1996)1729.
• M. Kumagai, N. Uchiyama, E. Ohmura, R. Sugiura, K. Atsumi and K. Fukumitsu: Advanced dicing technology for semiconductor wafer Stealth dicing, Ieee Transactions on Semiconductor Manufacturing 20, 3(2007)259.
• R. R. Gattass and E. Mazur: Femtosecond laser micromachining in transparent materials, Nature Photonics 2, 4(2008)219.
• E. N. Glezer, M. Milosavljevic, L. Huang, R. J. Finlay, T. H. Her, J. P. Callan and E. Mazur: Three-dimensional optical storage inside transparent materials, Opt. Lett.21, 24(1996)2023.
• J. W. Chan, T. Huser, S. Risbud and D. M. Krol: Structural changes in fused silica after exposure to focused femtosecond laser pulses, Opt. Lett.26, 21(2001)1726.

タイトルに関連する用語 (6件)： ガラス ,  レーザ加工 ,  連続発振レーザ ,  変質 ,  現象 ,  観察