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J-GLOBAL ID:201002217836259353   整理番号:10A0019833

フッ素固定式パーフルオロ化合物(PFCs)除害システム

Perfluorocompounds (PFCs) Abatement System Utilizing Fluorine Immobilized Adsorbent
著者 (7件):
資料名:
巻: 52  号: 11  ページ: 624-628 (J-STAGE)  発行年: 2009年 
JST資料番号: G0194A  ISSN: 1882-2398  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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省電力で高いPFCs除去率を有し,かつ資源枯渇問題の解決と安全性確保を提供することを目的に開発した除去システムについて述べ,CFx膜CVDプロセス排ガスを対象として行った性能評価結果について報告した。また,本除去システムを導入することによる環境負荷低減効果について考察した。粒径2~6mmと比表面積60~80m2/gを両立する高比表面積粒状CaO剤を充填したCaO剤充填筒および2MHzICPプラズマ発生装置から構成されるF固定式PFCs除去システムを開発した。本構成によって,水資源問題および危険性を伴う水スクラバー処理による除去を可能にした。また,PFCsの分解と分解生成物中フッ素成分の固定をブースターポンプとバックポンプの間の減圧雰囲気下で行う構成によって再結合CF4の生成を予防し,高い除去率を実現した。CFx膜CVDプロセス排ガスを対象にした実証実験では,300°Cに保温した高比表面積粒状CaO剤でC2F4とC5F8をプレ除去することによってプラズマの低電力化および安定化を果たした。この時のPFCs除去効率およびCO2換算除去効率はそれぞれ99.96%および93.5%であり,省電力での高効率除去が実証できた。また,除去処理後のCa剤が安全に扱える組成であることを確認した。今後,リサイクル用途への展開を検討する予定である。
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分類 (1件):
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排ガス処理法 
引用文献 (18件):
  • 1) SICAS Historical Data. 2008-10 edition. Available: http://www.sicas.info/
  • 2) K. Kikkawa: Oyobutsuri, 68 (1999) 1215. [in Japanese]
  • 3) International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS), 2007 edition. Available: http://www.itrs.net/reports.html
  • 4) T. Shirafuji: J. Plasma Fusion Res., 83 (2007) 350.
  • 5) G. Kawamura: Proc. 17th Int. Micro Electronics Conf., Miyagi, Japan, 2005, p. 57.
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