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J-GLOBAL ID：201002218627065092   整理番号：10A0181613

自己組織化ハニカム状多孔質膜を用いた無反射超撥水表面の作製

著者 (9件)： 平井悠司 (東北大) ,  藪浩 (東北大 多元物質科研) ,  松尾保孝 (北大 電子科研) ,  松尾保孝 (JST-CREST) ,  居城邦治 (北大 電子科研) ,  居城邦治 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大 多元物質科研) ,  下村政嗣 (JST-CREST) ,  下村政嗣 (東北大 WPI)
資料名： コロイドおよび界面化学討論会講演要旨集  (Book of Abstracts. Divisional Meeting on Colloid and Surface Chemistry, the Chemical Society of Japan)
巻： 62nd  ページ： 410  発行年： 2009年08月25日 
JST資料番号： L0862A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *自己組織化 ,  *ハニカム構造 ,  *膜 ,  *撥水 ,  *表面構造 ,  ウエハ【IC】 ,  *構造 ,  ドライエッチング ,  パターン形成 ,  走査電子顕微鏡 ,  化学組成 ,  X線光電子分光法 ,  接触角 ,  吸光分光分析 ,  鋳型効果 ,  *多孔質膜 ,  柱状構造 ,  電界放出型走査電子顕微鏡 ,  シリコンウエハ ,  ミクロパターン形成
準シソーラス用語： FE-SEM ,  シリコン基板 ,  微細パターン形成

分類 (1件)： 固-気界面一般  (CB12041H)

タイトルに関連する用語 (4件)： 自己組織化 ,  多孔質膜 ,  超撥水 ,  作製