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J-GLOBAL ID：201002220418736103   整理番号：10A0127863

高出力パルスマグネトロンスパッタリング:科学的および工学的な現状のレビュー

High power pulsed magnetron sputtering: A review on scientific and engineering state of the art

著者 (3件)： SARAKINOS K. (Materials Chemistry, RWTH Aachen Univ., 52074 Aachen, DEU) ,  ALAMI J. (Sulzer Metaplas GmbH, Am Boettcherberg 30-38, 51427, Bergisch Gladbach, DEU) ,  KONSTANTINIDIS S. (Lab. de Chimie Inorganique et Analytique, Univ. de Mons, Avenue Copernic 1, 7000 Mons, BEL)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 204  号： 11  ページ： 1661-1684  発行年： 2010年02月25日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HPPMS)は,学界と産業界の双方でかなりの関心を得ている新興技術である。HPPMSは,HIPIMS(高出力インパルスマグネトロンスパッタリング)とも呼ばれる物理蒸着法で,数kW・cm^-2のパルス・ターゲット出力密度になる,低デューティサイクル(<10%)で低周波数のパルス(<10kHz)の出力をターゲットに与える。この運転モードで,特異な性質(スパッタ原子のイオン化度が高い,イオン種がターゲットに対する垂線から離れて輸送される)の超高密度プラズマが発生する。これらの特徴によって,複雑な形状の基材に対する緻密で滑らかなコーティングの析出,析出過程の制御用の新しい追加のパラメタの提供,特性のテイラリング,元素および化合物の膜の性能の最適化,などが可能になる。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *マグネトロンスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  動力学 ,  表面処理 ,  薄膜成長
準シソーラス用語： 高出力パルスマグネトロンスパッタリング

分類 (2件)： スパッタリング  (BK16110U) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (7件)： 高出力 ,  パルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  科学 ,  工学 ,  現状 ,  レビュー