抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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多方面に利用されているX線は,従来フィラメントを1000°C以上に加熱して得られる熱電子を金属ターゲットに照射することで発生させてきた。従って,この装置ではフィラメントの加熱と電子照射における発熱(電子のエネルギーの99%以上が熱となり,X線変換効率は0.1%程度)の両方により,出力の大きなX線発生装置ほど大がかりな冷却装置を必要とする。本稿では,この問題を解決する手法として,電子源としてナノ構造の物質が有する高い電界放出能を利用する(冷陰極)ことを示した。ここでは,冷陰極として面にほぼ垂直に立った厚み1nm程度の板状のアモルファスカーボンを用いた。動作およびイメージングの事例を紹介し,大きな冷却装置無しおよびX線源の平面化が可能となることを示唆した。