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J-GLOBAL ID：201002221027922308   整理番号：10A0731511

輪郭線計測工学における近接関連エラー

Proximity-associated errors in contour metrology

著者 (3件)： VILLARRUBIA John S. (National Inst. Standards and Technol., MD) ,  DIXSON Ronald G. (National Inst. Standards and Technol., MD) ,  VLADAR Andras E. (National Inst. Standards and Technol., MD)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7638  号： Pt.1  ページ： 76380S.1-76380S.11  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 輪郭線計測工学におけるCD-SEM(臨界幅走査型電子顕微鏡)では連続した境界によってパターンを描く。境界は信号の単純な関数,例えば,明るさのしきい値,あるいは,傾斜によって決められる。しかし,境界に沿ったいくつかの区域の特性が非常に異なる可能性がある。境界のある部分は密接に近接したパターンを持っているが,他の部分は相対的に隔離されている。近接したパターンは二次電子の跳躍の妨げとなる。近隣の異なる近接効果は,したがって,検出強度に影響を及ぼす。区域の差によって生じる強度差は輪郭線シフトとして間違って解釈される。例えば,輪郭線が離隔された区域から密度が高い区域へ移動する時はそのようなことが起こる。このオフセット変化をJMONSEL,すなわち,SEM二次電子イメージングのMonte Carloシミュレータを用いて評価した。この時,近隣区域を変化させる単純なモデルテストパターンを用いた。類似した構造をその後でSEMと原子間力顕微鏡(AFM)によって測定した。端位置を固定像の明度輪郭線を用いて決めた時,各端でAFM像と比較して0.5nmから1.0nmオーダーの明白なシフト(すなわち,エラー)がモデル像とSEM測定結果に観察された。局所背景と局所最大明るさを比較して明るさによって端を決めることは近隣の差を反映しない結果となる。今回は一つの例を示したが,他の試料では付加的な効果が見出される可能性があるので,今回を一つのケーススタディと考えるのが適当である。

シソーラス用語： *原子間力顕微鏡 ,  *顕微鏡観察 ,  *リソグラフィー ,  輪郭 ,  特徴抽出 ,  計測工学 ,  回路パターン形成 ,  走査電子顕微鏡 ,  測定精度 ,  微細加工 ,  工作精度 ,  等高線 ,  近接効果

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 輪郭線 ,  計測工学 ,  エラー