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J-GLOBAL ID:201002221568798367   整理番号:10A0402996

単離可能なアリール置換シリルラジカルの合成,構造及び反応性

著者 (3件):
資料名:
巻: 90th  号:ページ: 223  発行年: 2010年03月12日 
JST資料番号: S0493A  ISSN: 0285-7626  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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嵩高いtBu2MeSi基2つと3,5-ジ-tertブチルフェニル基を置換基とするヨードシランの還元的脱ヨウ素化反応により,アリール置換シリルラジカルの合成,単離に成功し,その分子構造をX線結晶構造解析で決定した。一方,フェニル基を導入したアリール置換シリルラジカルは,フェニル基のパラ位に別なシリルラジカルが付加した2量体との平衡状態にあることも明らかにした。(著者抄録)
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分類 (2件):
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有機けい素化合物  ,  有機半金属・有機金属化合物の結晶構造 
物質索引 (3件):
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