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J-GLOBAL ID：201002223339701760   整理番号：10A0277981

薄膜形成技術とコーティング RAS法を用いた機能性薄膜の高速低温結晶化成膜技術

著者 (1件)： 野口大輔 (都城工高専)
資料名： コンバーテック  (Convertech)
巻： 38  号： 3  ページ： 96-99  発行年： 2010年03月15日 
JST資料番号： Y0873A  ISSN： 0911-2316  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 基盤の耐熱性に係らず,金属化合物の薄膜を製作するために,ラジカル支援スパッタリング(RAS)法の研究状況を報告した。この方法はスパッタリングによって金属の薄膜形成と続く金属化合物化を空間的,時間的に分離し,独立に製膜制御を行う。アモルファス表面(金属酸化物)上に原子状酸素(ラジカル)励起による核形成と,その核形成層の上に通常のRAS法を用いて,低温下(100°C以下)で結晶性金属酸化膜を堆積させる2段階ステップ成膜法の開発を紹介した。最近,注目され開発が進展している酸化チタンの光触媒薄膜へのRAS法の適用によって,低温化による装置の簡素化とスループット(成膜速度)の向上,それにその性能を紹介した。アナターゼ型結晶構造の確認と,UV照射による電子-正孔対の表面移動による光励起親水化と油分解触媒活性を確認した。このRAS技術は,物質と基板を選ばず,処理時間が短いことから広い工業分野の製造ラインに組み込めることを示した。

シソーラス用語： *薄膜成長 ,  金属酸化物 ,  *スパッタ蒸着 ,  ラジカル反応 ,  非晶質金属 ,  金属薄膜 ,  結晶成長 ,  成長速度 ,  酸素 ,  核形成 ,  透過型電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  電子回折 ,  *酸化チタン ,  光触媒 ,  活性 ,  酸化 ,  スループット ,  アナターゼ型結晶 ,  紫外線照射 ,  電子正孔対 ,  親水性 ,  廃油 ,  光酸化 ,  技術展望
準シソーラス用語： 原子状酸素 ,  二酸化チタン ,  光触媒活性 ,  低温酸化

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光化学反応  (CB08020F)

引用文献 (15件)：

• 金原 繁: スパッタリング現象, 東京大学出版会, 東京, p.155(1984)
• 和佐清孝, 早川 茂: 薄膜化技術第3版, 共立出版, 東京, p.123(2002)
• 塩野一郎: 月刊ディスプレイ, 8月号, p.47(2009)
• 菊池和夫, 松本繁治: 特開平11-279758
• 野口大輔, 河野慶彦, 清 文博: 特願2009-193027

タイトルに関連する用語 (6件)： 薄膜形成技術 ,  コーティング ,  Ras ,  機能性薄膜 ,  低温結晶化 ,  成膜