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J-GLOBAL ID:201002223455050636   整理番号:10A0722465

イオン照射型ビットパターン媒体の現状

Recent Progress of Ion Irradiation Bit Patterned Media
著者 (6件):
資料名:
巻: 130  号:ページ: 613-620 (J-STAGE)  発行年: 2010年 
JST資料番号: S0808A  ISSN: 0385-4205  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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イオン照射型ビットパターン媒体作製について著者の研究を中心にレビューした。始めに,Co/Pd多層膜についてGa+イオン照射の実験結果を紹介した。これにより磁気異方性の制御が可能で,局所的な照射により表面が平坦なビットパターン媒体作製可能なことを示した。一方,イオン照射では磁気ビット間が磁気的に結合することから,強磁性-非磁性の転移が可能な材料であるL12型CrPt3にKr,Arを照射して高密度ビットパターン媒体作製を作製した。CrPt3膜は2×1014イオン/cm2程度の照射でL12構造からA1構造に遷移し,フェリ磁性から常磁性へ遷移することを明らかにした。今後のイオン照射型ビットパターン媒体の性能予測と解決すべき課題も紹介した
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分類 (1件):
分類
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電子・磁気・光学記録 
引用文献 (32件):
タイトルに関連する用語 (3件):
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