文献

J-GLOBAL ID：201002223906500355   整理番号：10A0435234

アンバランスマグネトロンスパッタリングにより調製したTiN膜の微細構造と特性に及ぼす焼鈍処理の効果

The effect of annealing treatment on microstructure and properties of TiN films prepared by unbalanced magnetron sputtering

著者 (4件)： XI Yingxue (State Key Lab. of Solidification Processing, School of Materials Sci. and Engineering, Northwestern Polytechnical ...) ,  XI Yingxue (Shaanxi Province Thin Film Technol. and Optical Test Open Key Lab., School of Optoelectronic Engineering, Xi’an ...) ,  FAN Huiqing (State Key Lab. of Solidification Processing, School of Materials Sci. and Engineering, Northwestern Polytechnical ...) ,  LIU Weiguo (Shaanxi Province Thin Film Technol. and Optical Test Open Key Lab., School of Optoelectronic Engineering, Xi’an ...)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 496  号： 1-2  ページ： 695-698  発行年： 2010年04月30日 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アンバランスマグネトロン(UBM)スパッタリング法を用いてSiウェハ上にTiN薄膜を蒸着し,その後,真空中で300から900°Cの温度範囲で焼鈍した。X線回折(XRD)及び走査型電子顕微鏡(SEM)により,各種のプロセッシンングパラメータで製造した薄膜の微細構造及び表面形態を特徴付けた。焼鈍処理温度の変化に対する硬度及び表面粗さの変化を調べた。焼鈍処理はTiN膜の微細構造,結晶度,テクスチャー,粒径,硬度及び粗さの変化を引起こすことが分かった。TiN膜の硬度は真空中の熱処理後に減少したが,表面粗さは著しく増加した。さらに他の焼鈍温度と比較して450°Cで焼鈍した膜で,硬度と粗さの最大値を観測した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  *焼なまし ,  チタン化合物 ,  窒化物 ,  *薄膜 ,  加熱温度 ,  硬度 ,  表面粗さ ,  表面構造 ,  結晶度 ,  粒径 ,  微細構造
準シソーラス用語： *窒化チタン

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (6件)： アンバランス ,  マグネトロンスパッタリング ,  調製 ,  TiN膜 ,  微細構造 ,  焼鈍処理