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J-GLOBAL ID：201002223986383907   整理番号：10A1103753

高Al組成AlGaAsの水蒸気酸化によって作製したAlO_xの分光エリプソメトリー評価

著者 (4件)： 平井裕一郎 (大阪大 大学院) ,  山田高寛 (大阪大 大学院) ,  石川史太郎 (大阪大 大学院) ,  近藤正彦 (大阪大 大学院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 71st  ページ： ROMBUNNO.17A-P13-16  発行年： 2010年08月30日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： アルミニウム ,  化学組成 ,  ヒ化ガリウムアルミニウム ,  酸化 ,  *酸化アルミニウム ,  *偏光解析法 ,  二次元 ,  屈折率 ,  スラブ ,  光学的性質 ,  MBE成長 ,  バッファ層 ,  ヒ化ガリウム ,  基板 ,  分散【dispersion】 ,  *酸化膜 ,  フォトニック結晶
準シソーラス用語： コア層 ,  水蒸気処理 ,  波長分散 ,  *分光エリプソメトリー

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (7件)： Al ,  組成 ,  AlGaAs ,  水蒸気酸化 ,  作製 ,  分光エリプソメトリー ,  評価