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J-GLOBAL ID：201002224081196867   整理番号：10A0278984

Nb-Ta合金に生成するアノード酸化皮膜の生成挙動と誘電的性質

著者 (5件)： 小宮山正造 (北大 大学院) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  永田晋二 (東北大 金属材料研) ,  木村久道 (東北大 金属材料研) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院)
資料名： 表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 121st  ページ： 238-239  発行年： 2010年02月26日 
JST資料番号： Y0050A  ISSN： 0917-2947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ニオブ合金 ,  タンタル添加合金 ,  *タンタル合金 ,  ニオブ添加合金 ,  *アノード酸化 ,  *酸化膜 ,  スパッタリング ,  *静電容量 ,  *化成皮膜

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (5件)： Nb ,  Ta合金 ,  アノード酸化皮膜 ,  挙動 ,  誘電的性質